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石英坩堝的內表面氣泡含量
2024-05-31 16:01:10
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| 坩堝最內表層是指透明層中最靠近內表面1-2mm的部分。圖中表明了在使用過程中，坩堝對硅液起作用的機理--由于與硅液接觸的內表面不斷向硅液中熔解，并且伴隨著透明層中的微氣泡不斷的長大，靠近最內表面的氣泡破裂，伴隨著硅液釋放石英微顆粒以及微氣泡。而這些雜質會以微顆粒以及微氣泡的形式伴隨著硅液流遍整個硅熔體，直接影響到硅的成晶（整棒率、成晶率、加熱時間、直接加工成本）以等及單晶硅的質量（穿孔片、黑芯片等）。 | |
| 普通坩堝，使用前內表面氣泡較多，使用中內表面氣泡不斷破裂，直接污染硅熔體、影響單晶拉制，氣泡破裂現(xiàn)象隨著時間的增加愈加嚴重，無法滿足長時間拉晶的需要。 |
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| 高品質坩堝，使用前內表面基本無氣泡，使用中內表面氣泡破裂現(xiàn)象極少，為長時間拉晶（如多次復投料）提供保障。 |
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